摊铺整平机是施工建筑这一方面经常可以使用到的一种机械设备，它能够快速的将地面上的混凝土摊铺并且整平，达到我们想要的效果，但是除此之外我们还需要对它进行抛光，这样才能够更好的整平地面，那么你知道该设备具体是怎样进行抛光的吗？在进行抛光的过程中需要了解哪些内容呢？接下来的文章就为大家进行介绍。
我们可以将抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。整平机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。
同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。
湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，最好不要超过600r/min；
抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。
精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。整平机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构，已逐步引起有关专家的重视。国内外在整平机的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新机型、新一代的摊铺整平机，正由原来的手动操作发展成为各种各样的摊铺整平机。
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